دستاوردی جدید در زمینه نانولیتوگرافی


محققان دانشگاه ام آیتی، به دستاوردی مهم در زمینه نانولیتوگرافی رسیدهاند که به کمک آنمیتوان الگوهایی ریزتر(خطوطی به اندازة 25 نانومتر که به فاصلة 25نانومتر از هم قرار گرفتهاند) را در سطحی وسیع ایجاد کرد.


بهگزارش روز چهارشنبه باشگاه خبرنگاران دانشجویی ایران "ایسکانیوز" این روشدر نسل آینده حافظههای رایانهای و تراشههای مدارهای مجتمع و پیلهایخورشیدی پیشرفته و سایر دستگاهها کاربرد خواهد داشت.
محققان در اینروش که لیتوگرافی تداخلی(IL) نام دارد و در واقع شکل دیگری از لیتوگرافیتداخلی روبش پرتو(SBIL) است، با بهره گیری از یک نانوخطکش و امواج صوتیبا فرکانس MHZ 100، موفق شدند الگوهای ریز قابل تکراری را به شکلیکنترلشده و سریع در یک سطح بسیار وسیع ایجاد نمایند.
به گزارشایسکانیوز به نقل از نانو، با توجه به بازدهی بالا و هزینه کم این شیوه،استفاده از آن میتواند به تجاریسازی بسیاری از اختراعات فناورینانومنجر شود.
این نخستین بار است که ازSBIL به این منظور استفاده میشودو به این ترتیب امکان کنترل فرایندهای تصویربرداری لیتوگرافی فراهممیگردد.
نتایج این تحقیق در نشریة Optic letters منتشر شدهاست