ایجاد بستر حسگر با استفاده از لیتوگرافی تداخلی
---------------------------

محققان انگلیسی نشان دادهاند که میتوان با استفاده از لیتوگرافی تداخلی،آرایههایی از نانوساختارهای بسیار یکنواخت در مقیاس سانتیمتر تولید کرد.
به گزارش روز سه شنبه باشگاه خبرنگاران دانشجویی ایران "ایسکانیوز"این ابزارهای الگودهی شده که با استفاده از روشهای روکشدهی استانداردساخته شدهاند، بستری برای تشخیص زیستی بسیار حساس همراه با منبع نور سفیدو یک طیفسنج فراهم میآورند.
گروه پژوهشی دانشگاه بیرمنگام آرایههاینانوساختاری هیبرید فلزی خود را که اندازه آن در مقیاس سانتیمتری بود، ازطریق بررسی تغییرات پیک در طیف این تراشه پس از افزودن اتانول مطلق آزمایشکردند.
ابتدا سطح مورد نظر طیفی با دو پیک در طول موجهای 3/585 و6/493 نشان داد؛ اما زمانی که یک قطره اتانول اضافه شد، این پیکها به سمت3/451 و 2/618 نانومتر جابهجا شدند.
*انتقال الگو
این گروه پژوهشی برای ایجاد این ابزار حسگری از ترکیبی از لیتوگرافی تداخلی، رسوبدهی فلزی، و حکاکی استفاده کرد.
آنهاابتدا یک لایه 20 نانومتری از کروم روی یک بسیتر سیلیکونی 2*2 سانتیمتریکه تمیز شده و پخته بود (در دمای 170 درجه سانتیگراد به مدت 1 ساعت)،ایجاد کردند.
سپس یک لایه به ضخامت 120 نانومتر از ماده مقاوم مثبتAZ3100MI روی فیلم کرومی ایجاد شده و به مدت 15 دقیقه در دمای 100 درجهسانتیگراد قرار داده شد. پس از آن زمان الگودهی بستر بود.
دستگاه لیتوگرافی تداخلی این محققان بر تنظیمات آینه Lloyd مبتنی بود.
یک آینه به صورت معمولی نسبت به بستر قرار گرفته و یک نور لیزر قطبی شده S با طول موج 442 نانومتر روی آن تابانده شد.
بخشیاز نور لیزر توسط آینه منعکس شده و با بخش منعکس نشده نور تداخل میکند ودر نتیجه الگوهایی نوری از خطوط روشن و تاریک ایجاد میشود.
کایل جیانگ از دانشگاه بیرمنگام گفت: میتوان با حذف لایه نقره و سپس نشاندن یک لایه جدید از بستر مورد نظر چندین بار استفاده کرد.
ماده مقاوم به مدت 8 ثانیه در معرض لبه تداخلی قرار میگیرد.
پس از چرخاندن نمونه به میزان 90 درجه، دوباره در معرض نور قرار میگیرد تا نانوپایههایی روی بستر ایجاد شوند.
به گزارش ایسکانیوز به نقل از نانو، سپس ماده مقاوم در Microposit 303A به مدت 30 ثانیه توسعه یافته و در آب بدون یون شسته میشود.
سپسباقیماندههای ماده مقاوم با استفاده از حکاکی یون فعال حذف شده و فراینددوم حکاکی برای انتقال الگو روی بسیتر سیلیکای گداخته آغاز میشود.
درنهایت یک لایه نازک 40 نانومتری از نقره روی نانوپایههای سیلیکون گداختهرسوب داده میشود تا آرایهای متناوب از نانوساختارهای فلزی که میتوانندرزونانس پلاسمون سطحی موضعی داشته باشند، ایجاد شود